阴影掩膜制备及其在有机半导体微纳米器件制备中的应用 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会.pdf

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2026-1-10 16:03 | 查看全部阅读模式

会议论文《阴影掩膜制备及其在有机半导体微纳米器件制备中的应用》介绍了阴影掩膜技术的制备方法及其在有机半导体器件中的应用。该研究为微纳米尺度器件的精确加工提供了有效手段，对提升器件性能和集成度具有重要意义。

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