纳米电子束光刻若干工艺技术的讨论 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会.pdf

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2026-1-10 15:15 | 查看全部阅读模式

会议论文《纳米电子束光刻若干工艺技术的讨论》发表于2013年全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会。该文探讨了纳米电子束光刻在微纳加工中的关键技术，包括分辨率提升、工艺稳定性及应用前景等方面，对推动我国半导体制造技术发展具有重要参考价值。

文档为pdf格式，0.16MB，总共3页。