会议论文《真空镀膜方法制备二氧化钛薄膜研究》介绍了通过真空镀膜技术制备二氧化钛薄膜的实验方法与结果。文章探讨了不同工艺参数对薄膜性能的影响，如沉积速率、基板温度和气体比例等。研究旨在优化制备工艺，提高薄膜的均匀性和光学性能，为光电子器件和功能涂层提供理论支持和技术参考。
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