直流反应磁控溅射制备高折射率TiO2薄膜的工艺参数研究 - 2013全国玻璃科学技术年会.pdf

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2026-1-10 14:59 | 查看全部 阅读模式

会议论文《直流反应磁控溅射制备高折射率TiO2薄膜的工艺参数研究》发表于2013全国玻璃科学技术年会。该文研究了通过直流反应磁控溅射技术制备高折射率TiO2薄膜的工艺参数,探讨了氧分压、基板温度和溅射功率等对薄膜性能的影响,为优化TiO2薄膜的制备工艺提供了理论依据和技术支持。

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直流反应磁控溅射制备高折射率TiO2薄膜的工艺参数研究 - 2013全国玻璃科学技术年会
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