0.18μm MOS晶体管1_f噪声总剂量效应 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会.pdf

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2026-1-10 10:27 | 查看全部 阅读模式

会议论文《0.18μm MOS晶体管1_f噪声总剂量效应》探讨了在辐射环境下,0.18μm工艺MOS晶体管的1/f噪声特性变化。研究通过实验分析了总剂量效应对其电学性能的影响,揭示了辐射对器件噪声行为的作用机制,为高可靠性电子系统设计提供了理论依据。

文档为pdf格式,0.27MB,总共6页。

0.18μm MOS晶体管1_f噪声总剂量效应 - 2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
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