国产电阻阵列的发展_历史、现状和未来技术探讨 - 第三届红外成像系统仿真测试与评价技术研讨会.pdf

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2026-1-10 10:16 | 查看全部 阅读模式

会议论文《国产电阻阵列的发展_历史、现状和未来技术探讨》介绍了我国电阻阵列技术的发展历程,分析了当前技术水平与应用现状,并对未来技术方向进行了深入探讨。文章强调了自主研发的重要性,指出了在材料、工艺及性能优化等方面的研究重点,为推动我国红外成像技术的发展提供了理论支持和实践参考。

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国产电阻阵列的发展_历史、现状和未来技术探讨 - 第三届红外成像系统仿真测试与评价技术研讨会
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