PECVD高阻隔膜镀膜设备的研制 - 2014年广东省真空学会学术年会.pdf

4 0
2026-1-10 09:49 | 查看全部 阅读模式

会议论文《PECVD高阻隔膜镀膜设备的研制》发表于2014年广东省真空学会学术年会,主要介绍了采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术开发高阻隔膜镀膜设备的研究成果。该设备在薄膜均匀性、致密性和生产效率方面具有显著优势,适用于柔性电子、光伏和包装等领域。研究为高阻隔材料的工业化生产提供了技术支持,推动了相关行业的技术进步。

文档为pdf格式,0.57MB,总共7页。

PECVD高阻隔膜镀膜设备的研制 - 2014年广东省真空学会学术年会
文件大小:
583.68 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1