会议论文《真空制程对混晶性能影响的研究》发表于2014年中国平板显示学术会议，探讨了真空环境下制程参数对混晶材料性能的影响。研究通过实验分析不同真空度和工艺条件下的混晶结构变化，揭示了真空环境对晶体生长及光电性能的调控作用，为提高平板显示器件的性能提供了理论依据和技术支持。
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