会议论文《The Implementation of Double Patterning Technology under 20nm SoC Design》探讨了在20nm工艺节点下，双图案技术（DPT）在系统级芯片（SoC）设计中的应用与实现。文章分析了DPT在解决光刻限制、提升设计密度和良率方面的关键作用，并提出了优化布局与布线的策略。该文为先进制程下的集成电路设计提供了重要参考，展示了微处理器技术的发展趋势。
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