SiC刻蚀工艺研究及其对BJT击穿电压的影响 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

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2026-1-10 01:42 | 查看全部 阅读模式

会议论文《SiC刻蚀工艺研究及其对BJT击穿电压的影响》探讨了硅碳(SiC)刻蚀工艺对双极结型晶体管(BJT)性能的影响。研究通过优化刻蚀参数,提高了器件的击穿电压,增强了器件的可靠性与稳定性。该成果为SiC功率器件的开发提供了重要参考,具有重要的工程应用价值。

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SiC刻蚀工艺研究及其对BJT击穿电压的影响 - 第十八届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
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