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Ar等离子体刻蚀LPCVD法制备的ZnO∶B薄膜的研究 - 第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会.pdf

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2026-1-10 01:09 | 查看全部阅读模式

本文介绍了采用Ar等离子体刻蚀技术对LPCVD法制备的ZnO∶B薄膜进行加工的研究。通过分析刻蚀参数对薄膜性能的影响，探讨了优化工艺条件以提高薄膜质量的可行性。研究结果为ZnO∶B薄膜在光伏器件中的应用提供了理论依据和技术支持。

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Ar等离子体刻蚀LPCVD法制备的ZnO∶B薄膜的研究 - 第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会.pdf

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光伏, 等离子体, 中国国际, 薄膜, 第十

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