本文介绍了隧道穿透场效应晶体管(Tunnel FET)的研究进展,分析了其工作原理及在纳米尺度下的优势。文章探讨了Tunnel FET在低功耗和高开关比方面的潜力,对比了传统MOSFET的性能差异。研究为下一代半导体器件的发展提供了理论支持和技术参考,对集成电路设计具有重要意义。
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