薄层高阻外延工艺技术研究 - 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

论文《薄层高阻外延工艺技术研究》探讨了在半导体制造中实现高质量薄层高阻外延层的工艺技术。通过优化生长条件和材料选择，提高了外延层的电学性能和结构质量。该研究对提升半导体器件的性能和可靠性具有重要意义，为后续集成电路的发展提供了技术支持。

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2025-12-14 09:13 上传 薄层高阻外延工艺技术研究 - 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议.pdf

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