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脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较 - 第十次全国热处理大会.pdf

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2025-12-14 09:04 | 查看全部阅读模式

论文《脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较》探讨了两种磁控溅射技术在CrNx镀层制备中的性能差异。研究显示，P-CFUBMS能有效提高镀层致密性和均匀性，改善硬度与耐磨性。而dc-CFUBMS则在沉积速率方面表现更优。该文为选择适合的镀层制备工艺提供了理论依据和技术参考。

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脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较 - 第十次全国热处理大会

2025-12-14 09:05 上传

脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较 - 第十次全国热处理大会.pdf

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