论文《染色法测量N+N扩散结深的修正系数初探》探讨了利用染色法测量半导体器件中N+N扩散结深时的修正系数问题。通过实验分析,提出了影响测量精度的关键因素,并建立了相应的修正模型。该研究为提高扩散结深测量的准确性提供了理论依据和技术支持,对半导体制造工艺具有重要参考价值。
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