该论文研究了n型掺杂张应变Ge的发光性质,重点分析了其基于直接带跃迁的发光机制。通过实验与理论分析,发现张应变可有效改善Ge的光学性能,增强其发光效率。研究结果对硅基光电子器件的发展具有重要意义,为实现Ge基光源提供了理论依据。
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