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该论文介绍了通过肼-高岭石插层复合物作为中间相，制备0.84nm水合高岭石的方法。研究采用插层技术将肼分子引入高岭石层间，通过热处理等过程实现结构调控，最终获得具有特定层间距的水合高岭石材料。该方法为高岭石的改性与功能化提供了新思路，对高技术陶瓷材料的开发具有重要意义。 ","role":"assistant文档为pdf格式，0.05MB，总共1页。
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- 以肼_高岭石插层复合物为中间相制备0.84nm水合高岭石 - 2011中国(景德镇)高技术陶瓷国际论坛暨第十届全国工 ...
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