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《980nm垂直腔底发射激光器注入电流输运分布计算和调控》是2011全国光电子与量子电子学技术大会中的一篇重要论文。该文针对980nm垂直腔面发射激光器（VCSEL）的电流注入特性进行了深入研究，重点分析了电流在器件内部的输运分布情况。通过建立物理模型和数值仿真方法，作者探讨了不同结构参数对电流分布的影响，并提出了有效的调控策略，以提高器件性能和稳定性。该研究对于优化VCSEL的设计和制造工艺具有重要意义，为高效率、低阈值的激光器开发提供了理论依据和技术支持。 文档为pdf格式，0.38MB，总共3页。
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- 980nm垂直腔底发射激光器注入电流输运分布计算和调控 - 2011全国光电子与量子电子学技术大会.pdf ...
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