文档名：溅射靶材用高纯钌粉制备技术研究及进展
电子工业生产钌靶对所用的钌粉纯度(99.999％)、分散性、形貌和尺寸等有严格的要求.国内目前只能在实验室制备出高性能的钌粉,尚未应用于生产,在制备高性能钌粉方面与国外有较大差距,且国内钌靶用钌粉主要依靠进口.通过分析和总结了国内外钌靶用钌粉的生产方法、工艺和测试方法,并对国内钌靶用钌粉的制备提出了建议.
作者：赵盘巢 郭磊 陈家林 操齐高 易伟
作者单位：昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106;西北有色金属研究院,西安710016昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106西北有色金属研究院,西安710016
母体文献：2017年中国贵金属论坛论文集
会议名称：2017年中国贵金属论坛
会议时间：2017年10月18日
会议地点：西安
主办单位：中国有色金属学会
语种：chi
分类号：
关键词：高纯钌粉 制备工艺 性能评价
在线出版日期：2021年3月31日
基金项目：
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