文档名：基于分析晶体成像投影偏移研究
投影偏移将严重影响基于分析晶体成像系统的信息提取精度和图像质量.从基于分析晶体成像系统的原理出发,建立了光路模型,分析了产生投影偏移的主要原因,计算机模拟研究了投影偏移对折射角信息提取的影响.结果表明,投影偏移主要由分析晶体本征摇摆曲线宽度和折射角所产生.本征摇摆曲线宽度将导致相邻像素之间的射线随分析晶体的摇摆相互偏移,当样品未被射线完全覆盖时,边界像素的摇摆曲线将出现形变,虚像素将出现计数并形成畸形摇摆曲线.折射角引起的投影偏移将使摇摆曲线形状和高度发生改变,随折射角增大,出现像素错位,其影响折射角信息提取的正确性.本征摇摆曲线宽度和折射角共同产生投影偏移并影响折射角信息的提取.
作者：张催 潘小东 商宏杰 李公平
作者单位：兰州大学核科学与技术学院,甘肃兰州730000兰州大学核科学与技术学院,甘肃兰州730000;兰州大学特殊功能材料与结构设计教育部重点实验室,甘肃兰州730000
母体文献：中国原子能科学研究院第32届“五四”青年学术报告会论文集
会议名称：中国原子能科学研究院第32届“五四”青年学术报告会
会议时间：2018年4月16日
会议地点：北京
主办单位：中国原子能科学研究院
语种：chi
分类号：
关键词：分析晶体成像 投影偏移 摇摆曲线 折射角
在线出版日期：2021年9月26日
基金项目：
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