GBT 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法TXRF测定

表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surfacechemicalanalysis.Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy

摘要:本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。本标准适用于原子表面密度介于6×10atoms/cm~5×10atoms/cm范围的铁和/或镍。

标准编号：GB/T30701-2014
标准类型：
发布单位：CN-GB
发布日期：2014年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2014年1月1日
关键词：

GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定.pdf

2024-9-22 12:00 上传 GBT 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法TXRF测定.pdf

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