高锆含量改性聚硼硅氮烷的合成与表征

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通过Cp2Zr(CH2CH=CH2)2与液态聚硼硅氮烷(LPBSZ)在过氧化二异丙苯的作用下发生自由基共聚反应,制备了锆含量大于10％(质量分数)的含锆聚硼硅氮烷(PZC-PBSZ).采用红外光谱、核磁共振、光电子能谱等方法研究了PZC-PBSZ的分子结构及合成机理.结果表明,在先驱体的合成过程中,Cp2Zr(CH2CH=CH2)2除了自身发生自由基聚合反应外,还会与LPBSZ中的Si-H发生硅氢加成和取代反应,生成Zr-C和Zr-Si.通过TG-MS和29SiMASNMR分析表明,PZC-PBSZ先驱体中Cp、(CH3)3Si和(CH3)2SiH等官能团的脱除主要发生在400～800℃.当温度升高到800～1200℃后,先驱体基本无机化,主要发生SiHN2C和SiN3C结构向SiN4结构的转变.PZC-PBSZ经1000℃以上高温热解后可以转化为ZrC纳米颗粒均匀分布在SiBNC基体的ZrC/SiBNC纳米复相陶瓷.经1800℃高温处理后,ZrC/SiBNC陶瓷仍保持均匀和晶粒细化的纳米晶结构.
作者：龙鑫邵长伟王军
作者单位：国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,湖南长沙410073
母体文献：2018全国溶胶-凝胶学术研讨会暨国际论坛论文集
会议名称：2018全国溶胶-凝胶学术研讨会暨国际论坛  
会议时间：2018年10月17日
会议地点：西安
主办单位：中国硅酸盐学会
语种：chi
分类号：
关键词：纳米复相陶瓷  聚硼硅氮烷  自由基共聚反应  锆含量
在线出版日期：2022年3月9日
基金项目：
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