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[YS有色金属] YST 839-2012 硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法

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admin 发表于 2024-9-25 15:40 | 查看全部阅读模式

硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法
Testmethodformeasurementofinsulatorthicknessandrefractiveindexonsiliconsubstratesbyellipsometry

摘要:本方法规定了用椭圆偏振测试方法测量生长或沉积在硅衬底上的绝缘体薄膜厚度及折射率的方法。本方法适用于薄膜对测试波长没有吸收和衬底对测试波长处不透光、且已知测试波长处衬底折射率和消光系数的绝缘体薄膜厚度及折射率的测量。对于非绝缘体薄膜，满足一定条件时,方可采用本方法。

标准编号：YS/T839-2012
标准类型：
发布单位：CN-YS
发布日期：2012年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2013年1月1日
关键词：硅衬底,绝缘体,椭圆偏振,冶金,贵金属,有色金属

YS/T 839-2012 硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法.pdf

2024-9-25 15:40 上传

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衬底, 偏振, 折射率, 绝缘体, 椭圆

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