会议论文《衬底温度对磁控溅射硅薄膜结构性能的影响》探讨了不同衬底温度对硅薄膜微观结构和性能的影响。研究通过磁控溅射法制备硅薄膜，并利用XRD、SEM等手段分析其结构特性。结果表明，衬底温度显著影响薄膜的结晶度、表面形貌及力学性能，为优化硅薄膜制备工艺提供了理论依据。
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