会议论文《薄膜光刻工艺参数的优化》发表于中国电子学会第十五届电子元件学术年会。该文针对薄膜光刻过程中关键工艺参数进行系统分析与优化，旨在提高光刻精度与良品率。研究通过实验设计与数据分析，探讨了曝光时间、显影浓度及温度等参数对薄膜质量的影响，提出了优化方案，为微电子制造提供了理论支持和技术参考。
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