会议论文《紫外光刻法制备图案化的硫化铜薄膜及其光学性能的研究》介绍了采用紫外光刻技术制备硫化铜薄膜的工艺方法，并分析了其光学性能。该研究为硫化铜在光电子器件中的应用提供了实验依据，具有重要的理论和实际意义。
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