紫外光辐照Bi4-xNdxTi3O12薄膜制备工艺 - 第十五届全国高技术陶瓷学术年会.pdf

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2026-1-12 17:24 | 查看全部 阅读模式

会议论文《紫外光辐照Bi4-xNdxTi3O12薄膜制备工艺》介绍了通过紫外光辐照技术制备Bi4-xNdxTi3O12薄膜的工艺方法。该研究旨在优化薄膜的结构与性能,提升其在光电器件中的应用潜力。通过调控Nd掺杂浓度和紫外光辐照参数,实验取得了良好的薄膜质量与光电特性。该成果为高技术陶瓷材料的制备提供了新思路。

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紫外光辐照Bi4-xNdxTi3O12薄膜制备工艺 - 第十五届全国高技术陶瓷学术年会
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