直流磁控溅射法制备ITO薄膜的研究 - 第十届中国太阳能光伏会议.pdf

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2026-1-12 16:53 | 查看全部 阅读模式

会议论文《直流磁控溅射法制备ITO薄膜的研究》发表于第十届中国太阳能光伏会议,探讨了采用直流磁控溅射技术制备氧化铟锡(ITO)薄膜的工艺与性能。文章分析了不同工艺参数对薄膜结构和电学性能的影响,为提高ITO薄膜的导电性和透光性提供了实验依据,对光伏器件的开发具有重要意义。

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直流磁控溅射法制备ITO薄膜的研究 - 第十届中国太阳能光伏会议
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