会议论文《用扫描探针显微镜扫描二维光栅形貌》发表于第19届中国过程控制会议。该文介绍了利用扫描探针显微镜（SPM）对二维光栅进行形貌分析的方法，探讨了其在微纳加工和表面检测中的应用价值。研究通过实验验证了SPM在高分辨率成像方面的优势，为相关领域的精确测量提供了技术支持。
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