会议论文《氢化非晶硅薄膜的磁控溅射制备及性能研究》探讨了采用磁控溅射法制备氢化非晶硅薄膜的工艺及其性能。研究分析了不同工艺参数对薄膜结构和光电特性的影响，为非晶硅在光伏和半导体领域的应用提供了理论依据和技术支持。
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