会议论文《新颖的分子玻璃抗蚀剂研究》发表于2008年非银盐影像技术及材料发展与应用学术研讨会。该研究聚焦于新型分子玻璃抗蚀剂的开发，旨在提升光刻工艺的精度与效率。通过优化材料结构，研究人员成功提高了抗蚀剂的热稳定性和化学耐受性，为后续微电子制造提供了新的解决方案。
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