会议论文《半导体设备控制中SEMI标准模型研究》发表于第19届中国过程控制会议，探讨了SEMI标准在半导体设备控制中的应用与优化。文章分析了SEMI标准模型的结构与功能，提出了适用于现代半导体制造环境的改进方案，旨在提升设备控制的标准化与自动化水平，对推动行业技术发展具有重要意义。
文档为pdf格式，0.46MB，总共4页。
举报
