会议论文《Characterization of a udHF and gas-phase ozone cleaning chemistry for flash tunnel ozide growth》介绍了用于闪蒸隧道氧化层生长的udHF和气相臭氧清洁化学的特性。该研究针对半导体制造中的关键工艺步骤，探讨了清洁技术对氧化层质量的影响，旨在提高器件性能与可靠性。本文发表于2008年北京微电子国际研讨会暨中国半导体行业协会集成电路设计分会年会。
文档为pdf格式，0.2MB，总共4页。
举报
