会议论文《釉层涂敷高度与气密性效果试验及分析》发表于2009年全国电光源材料科技研讨会，主要研究了釉层涂敷高度对气密性的影响。通过实验分析，探讨了不同涂敷高度下材料的密封性能变化，为提高电光源产品的密封质量提供了理论依据和技术参考。
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