等离子体沉积CrN和CrTiAlN薄膜 - 中国核学会2009年学术年会.pdf

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2026-1-11 21:07 | 查看全部 阅读模式

会议论文《等离子体沉积CrN和CrTiAlN薄膜》发表于中国核学会2009年学术年会,主要研究采用等离子体技术制备CrN及CrTiAlN薄膜的工艺与性能。文章探讨了不同工艺参数对薄膜结构和性能的影响,分析了其在高温和腐蚀环境下的应用潜力,为先进功能薄膜的制备提供了理论依据和技术支持。

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等离子体沉积CrN和CrTiAlN薄膜 - 中国核学会2009年学术年会
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