直接通电化学沉铜新型工艺 - 2009春季国际PCB技术_信息论坛.pdf

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2026-1-11 20:44 | 查看全部 阅读模式

会议论文《直接通电化学沉铜新型工艺 - 2009春季国际PCB技术_信息论坛》介绍了用于印刷电路板制造的一种创新沉铜技术。该工艺通过直接通电方式实现铜层的沉积,提高了沉积效率和均匀性,同时减少了传统工艺中的污染和成本。论文详细探讨了该技术的原理、操作流程及其在实际生产中的应用效果,为PCB制造提供了新的解决方案。

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直接通电化学沉铜新型工艺 - 2009春季国际PCB技术_信息论坛
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