会议论文《氩气等离子体刻蚀石墨烯片来增强其场发射性能》介绍了通过氩气等离子体刻蚀技术对石墨烯片进行处理，以提高其场发射性能的研究。该方法能够有效改善石墨烯的表面形貌和电子结构，从而提升其在场发射器件中的应用潜力。研究结果表明，适当的刻蚀参数可显著降低开启电场，增强发射电流密度，为高性能场发射材料的制备提供了新思路。
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