会议论文《多羟多胺在微电子CMP及清洗技术中的应用》探讨了多羟多胺在微电子制造中的关键作用。该文介绍了多羟多胺在化学机械抛光（CMP）和清洗工艺中的应用优势，强调其在提高材料去除率和表面洁净度方面的性能。研究为微电子器件的高精度加工提供了新的思路和技术支持，具有重要的工程应用价值。
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