XPS测定离子注入深度分布 - 2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议.pdf

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2026-1-11 11:39 | 查看全部 阅读模式

会议论文《XPS测定离子注入深度分布》发表于2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议。该文探讨了利用X射线光电子能谱(XPS)技术对离子注入材料的深度分布进行分析的方法。通过实验与理论结合,研究者验证了XPS在测量离子注入层深度方面的有效性,为电磁材料的性能优化提供了重要依据。

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XPS测定离子注入深度分布 - 2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议
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