会议论文《SiN纳米梁谐振器的制造工艺研究》发表于中国微米纳米技术学会第十一届学术年会。该文探讨了基于氮化硅（SiN）材料的纳米梁谐振器的制备工艺，重点分析了薄膜沉积、光刻、刻蚀等关键步骤。研究旨在提高器件的性能与可靠性，为微纳电子器件的发展提供技术支持。
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