会议论文《0.13μm高可靠标准单元库版图的分析与设计》发表于第十三届计算机工程与工艺会议(NCCET09’)。该文针对0.13微米工艺节点，深入分析了标准单元库的版图设计对电路可靠性的影响，提出了优化方案以提高芯片的稳定性和寿命。研究结合实际工艺特点，探讨了关键参数的布局与布线策略，为高性能集成电路设计提供了理论支持与实践指导。
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