硅烷氨气比对PECVD氮化硅薄膜性能的影响 - 第十一届中国光伏大会暨展览会.pdf

6 0
2026-1-11 05:49 | 查看全部 阅读模式

会议论文《硅烷氨气比对PECVD氮化硅薄膜性能的影响》探讨了在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)过程中,硅烷与氨气比例对氮化硅薄膜性能的影响。研究结果表明,适当的硅烷/氨气比可优化薄膜的结构和光学特性,提高其作为减反射层或钝化层的性能,为光伏器件的效率提升提供了理论依据和技术支持。

文档为pdf格式,0.32MB,总共3页。

硅烷氨气比对PECVD氮化硅薄膜性能的影响 - 第十一届中国光伏大会暨展览会
文件大小:
327.68 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1