会议论文《扫描光刻机硅片台五自由度激光测量模型》发表于第29届中国控制会议，主要研究了光刻机中硅片台的五自由度运动测量问题。该文提出了一种基于激光测量的模型，用于提高硅片台定位精度和稳定性，对提升光刻工艺质量具有重要意义。
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