倒立摆系统显式模型预测控制 - 第21届中国过程控制会议.pdf

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2026-1-11 01:34 | 查看全部 阅读模式

会议论文《倒立摆系统显式模型预测控制》发表于第21届中国过程控制会议,探讨了基于显式模型预测控制(EMPC)的倒立摆系统控制方法。该文通过建立精确的数学模型,设计了高效的控制算法,提升了系统的稳定性和响应速度。研究结果表明,该方法在复杂工况下具有良好的控制性能,为实际工程应用提供了理论支持和技术参考。

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倒立摆系统显式模型预测控制 - 第21届中国过程控制会议
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