会议论文《Ta缓冲层对超薄NiCo薄膜微结构和磁电特性的影响》探讨了Ta缓冲层在超薄NiCo薄膜中的作用。研究显示，Ta层能有效改善薄膜的结晶质量，优化其微观结构。同时，Ta缓冲层对薄膜的磁电性能有显著影响，可提升材料的磁阻效应和电学性能。该研究为高性能磁电子器件的开发提供了理论依据和技术支持。
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