CCD-MOS高精度界面态的测试研究 - 2010年全国半导体器件技术研讨会.pdf

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2026-1-11 00:17 | 查看全部 阅读模式

会议论文《CCD-MOS高精度界面态的测试研究》发表于2010年全国半导体器件技术研讨会,主要探讨了CCD-MOS器件中界面态的高精度测试方法。该研究对提高器件性能和可靠性具有重要意义,为半导体器件的优化设计提供了理论依据和技术支持。

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CCD-MOS高精度界面态的测试研究 - 2010年全国半导体器件技术研讨会
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