氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响 - 第九届全国光电技术学术交流会.pdf

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2026-1-10 23:05 | 查看全部 阅读模式

会议论文《氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响》探讨了在直流反应溅射过程中,氧和氩气分压对ZAO薄膜结构及性能的影响。研究结果表明,适当调节气体分压可显著改善薄膜的透明性和导电性,为优化ZAO薄膜的制备工艺提供了理论依据和技术支持。

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氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响 - 第九届全国光电技术学术交流会
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