176Hf(n_2n)175Hf反应截面测量 - 第六届(2010年)北京核学会核技术应用学术交流会.pdf

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2026-1-10 21:04 | 查看全部 阅读模式

会议论文《176Hf(n_2n)175Hf反应截面测量》发表于第六届(2010年)北京核学会核技术应用学术交流会。该研究通过实验方法测量了176Hf在中子照射下发生(n,2n)反应生成175Hf的反应截面,为核数据的完善提供了重要参考。研究结果对核能应用和核物理研究具有重要意义。

文档为pdf格式,0.85MB,总共5页。

176Hf(n_2n)175Hf反应截面测量 - 第六届(2010年)北京核学会核技术应用学术交流会
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