会议论文《准分子激光刻蚀制备300nm自支撑聚酰亚胺薄膜》介绍了利用准分子激光刻蚀技术制备超薄自支撑聚酰亚胺薄膜的方法。该研究针对300nm厚度的聚酰亚胺薄膜，通过优化激光参数，实现了高精度加工，为微电子和光电子器件提供了新型材料基础。论文展示了实验过程与结果，对激光刻蚀在柔性基板制造中的应用具有重要参考价值。
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