石英晶体微天平(QCM)研究树脂自抛光过程 - 2013年中国涂料工业协会防腐涂料分会年会暨第二届中国涂料技术创新高峰论坛.pdf

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2026-1-10 17:52 | 查看全部阅读模式

会议论文《石英晶体微天平(QCM)研究树脂自抛光过程》发表于2013年中国涂料工业协会防腐涂料分会年会暨第二届中国涂料技术创新高峰论坛。该文利用石英晶体微天平技术，实时监测树脂在自抛光过程中的质量变化，分析其动态行为与机制，为开发高性能防腐涂料提供了理论依据和技术支持。

文档为pdf格式，1.01MB，总共2页。